ChinaByte 2月25日消息 电脑绘图芯片制造商NVIDIA 24日表示，部份新款绘图处理芯片将以台积电0.11微米制程生产。 NVIDIA并未透露使用0.11微米制程的时间表，也未公布后续升级至90纳米制程的进度。
台积电是在2002年开始研发0.11微米的高效能技术，并在2003年12月将制程认证。此制程的良率已达适合投产水平，而且低耗电版本已开始量产。NVIDIA表示， 0.11制程的通用版本将在2005年第1季进入“风险生产”(risk production)。
NVIDIA指出，0.11微米制程是由0.13微米光蚀刻技术缩小而成。此制程涵盖高效能和通用版本，使用的是低k介电材料的氟矽玻璃。（完）
