摩托罗拉公司日前宣布，它开发出了两种新技术，可以在电子投射和极限紫外光这两种光刻法中使用
IC模块，在100
纳米以下的集成电路上实现功能尺寸。
摩托罗拉公司声称，自己已经“有能力生产具备处理实用
芯片尺寸”的大面积模块。在电子投射光刻法步骤中，包含一个拥有重叠
图案表面的薄膜以分散电子，并在硅晶片上生成一个翻版
映像。而用于极限紫外光刻法模块处理的新技术，则包含一个反射模块，上有一层薄薄的吸收材料，可以形成图案在硅晶片上生成一个翻版映像。摩托罗拉公司表示，上述新技术将可以使微芯片处理技术达到0.1微米水平之下。
摩托罗拉公司预计，这两种新技术将在下个世纪初期用来
印制非常小的功能集成电路。
