ChinaByte 2月18日消息 由于某种芯片制造设备推迟供货，英特尔公司曾被迫修改芯片生产计划。

　　英特尔本周披露说，由于预计在2005年到货的芯片光刻设备要推迟到2007年，为了继续使用目前的芯片光刻设备，英特尔将调整其芯片生产计划。

　　芯片光刻设备像一台滑动的投影机。这种工具通过透镜和一种称作光掩模的设备发出光线，在硅晶圆上刻出图形。这个图形就成为在生产过程中在处理器内部制作功能的基板。

　　下一代光刻工具将采用157纳米波长的光波，而不是目前使用的193纳米波长的光波。英特尔公司的代表说，由于下一代光刻工具在开发过程中出现了毛病以及经济低迷的影响，芯片设备厂商推出了这种新产品的推出时间。

　　英特尔发言人Manny Vara表示，英特尔对使用现有的光刻工具和未来的光刻工具作了两手准备。英特尔保留目前的设备并不影响该公司向新的生产工艺过渡，或者生产奔腾芯片和其它芯片产品。英特尔只是在新的芯片加工工具到货之前调整生产计划。

　　芯片厂商向新的生产工艺过渡是要生产出体积更小、芯片内晶体管更多的芯片以提高性能。当芯片厂商通过一些生产工艺之后，最终需要转换到能够产生更短的波长的新的光刻工具，这样芯片厂商就能在更新的芯片中配置更小的功能。

　　英特尔原计划在2005年转换到使用157纳米波长的光刻工具。现在，英特尔计划在等待新工具的同时继续使用193纳米光刻工具，至少使用到2007年。

　　英特尔原来预期157纳米工具在2005年投产，EUV（远紫外光刻技术）工具在2007年投放市场。现在，英特尔认为，157纳米工具将在2005年投产。EUV工具将在2009年投产。

　　英特尔原计划从2005年开始采用157纳米光刻工具进行65纳米芯片生产。但是，英特尔还能够把193纳米光刻技术用于65纳米芯片生产。消费者和最终用户是看不出差别的。只是开发的成本高一些。（完）